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簡要描述：ISTEQ公司開發了一種基於(yu) 激光產(chan) 生等離子體(ti) （LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續運行時間極長。ISTEQ公司為(wei) LPP光源開發的燃料是針對特定應用的光譜範圍而設計的。然而，對於(yu) 掩模檢查的應用，公司開發了一種高頻錫旋轉靶，已在全球範圍內(nei) 獲得專(zhuan) li。荷蘭(lan) ISTEQ公司TEUS係列EUV光源
產品型號：TEUS S-100更新時間：2025-03-13訪 問 量：1500產(chan) 品簡介
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 10萬-15萬 |
|---|---|---|---|
| 照射方式 | 內照式 | 光源種類 | 氙燈光源 |
| 應用領域 | 醫療衛生,化工,電子/電池,航空航天,電氣 |
詳細介紹
荷蘭(lan) ISTEQ公司TEUS係列EUV光源
產(chan) 品介紹：
ISTEQ公司開發了一種基於(yu) 激光產(chan) 生等離子體(ti) （LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續運行時間極長。
ISTEQ公司為(wei) LPP光源開發的燃料是針對特定應用的光譜範圍而設計的。然而，對於(yu) 掩模檢查的應用，公司開發了一種高頻錫旋轉靶，已在全球範圍內(nei) 獲得專(zhuan) li。
產(chan) 品特點：
·高亮度以及出色的穩定性
·最少的碎片
·ji高的正常運行時間
·高占空比和交鑰匙操作
·用戶友好的自動化協議，確保係統平穩運行，沒有中斷的風險。
產(chan) 品應用：
·掩模和表麵檢查：
·圖案掩模檢測 (PMI)
·區域掩模檢測 (AIMS)
·掩模空白檢測 (MBI)
·EUV 掃描儀(yi) 檢
·材料科學
·晶圓檢查
TEUS 係列激光等離子體(ti) 光源 |
型號參數：
型號 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
激光平均功率100 | 400 | ||
脈衝(chong) 重頻25或50或100或EUV功率立體(ti) 角0.05 | |||
等離子體(ti) 尺寸m | 60或≤ 4≤ (13.5 nm±2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr | ||
碎片處理係統後角內(nei) 光通量11 或22 或44 或W/mm2·sr | 80或≥≥ 280 | 310或≥ 3% rms | |
在10% | 不少於(yu) 4個(ge) 月 | 不少於(yu) 24/7運行狀態下，使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降18個(ge) 月 | 不少於(yu) 4個(ge) 月 |
維護時間間隔 | - 1 天 | - 2天 | - 1天 |
*** | 3個(ge) 月 | 5 kW | 10.5 kW |
尺寸（長×寬×高）1500×1200 | |||
重量，包括激光組件770 | |||
房間潔淨度等級 | 10升15升25升/分鍾 | ||
產(chan) 品谘詢
電子郵箱：
公司地址：上海市閔行區劍川路955號707-709室